در یکی از آزمایشگاه‌های فوق‌امنیتی شهر شنژن، پروژه‌ای پیش رفته که سال‌ها خط قرمز فناوری برای غرب محسوب می‌شد. گزارش‌های تازه حاکی از آن است که پژوهشگران چینی موفق شده‌اند نمونه‌ای اولیه از دستگاه لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) را توسعه دهند؛ فناوری‌ای کلیدی که نقش محوری در تولید پیشرفته‌ترین تراشه‌های هوش مصنوعی، نظامی و پردازشی جهان دارد. این دستاورد در سکوت خبری و با مشارکت مهندسانی رقم خورده که پیش‌تر در شرکت هلندی ASML « تنها تولیدکننده تجاری این دستگاه‌ها » فعالیت داشته‌اند.
دستگاه‌های EUV قادرند الگوهای الکترونیکی با ابعادی به‌مراتب نازک‌تر از موی انسان را روی ویفرهای سیلیکونی حک کنند؛ قابلیتی که تاکنون در انحصار کامل ASML بوده است. چین برای عبور از این سد فناوری، به‌سراغ جذب نیروهای کلیدی رفته و با ارائه مشوق‌های مالی چشمگیر، گروهی از مهندسان سابق این شرکت (عمدتاً چینی‌تبار) را به همکاری دعوت کرده است. طبق گزارش منابع آگاه، از جمله رویترز، برخی از این افراد حتی با هویت‌های پوششی، نام‌های مستعار و مدارک جعلی در این پروژه فعالیت کرده‌اند تا از حساسیت‌های سیاسی و فشارهای بین‌المللی در امان بمانند.
اگرچه هنوز نمی‌توان با قطعیت گفت نمونه اولیه EUV چین به سطح کیفیت و پایداری محصولات ASML رسیده، اما نفس این پیشرفت یک زنگ خطر جدی برای موازنه قدرت فناوری در جهان است. تحریم‌ها و محدودیت‌های صادراتی به‌جای متوقف‌کردن چین، عملاً این کشور را به سمت خودکفایی عمیق‌تر و پروژه‌های بلندپروازانه‌تر سوق داده‌اند. در صورت موفقیت نهایی این فناوری، انحصار چندده‌ساله غرب در صنعت نیمه‌هادی‌ها شکسته خواهد شد و رقابت ژئوپلیتیکی از سطح نرم‌افزار و هوش مصنوعی، وارد لایه‌ای عمیق‌تر و بنیادی‌تر یعنی ابزارهای تولید تراشه می‌شود؛ جایی که بازیگران بسیار کمتری امکان ورود به آن را دارند.
نبرد چین با پیچیده‌ترین ماشین دنیا؛ پروژه EUV هنوز ناتمام اما امیدوارکننده
دستگاه لیتوگرافی توسعه‌یافته توسط دانشمندان چینی همچنان در مرحله آزمایش و اعتبارسنجی قرار دارد. هرچند نمونه اولیه‌ای که در شنژن ساخته شده توانسته نور فرابنفش شدید تولید کند و از نظر فنی «فعال» محسوب می‌شود، اما هنوز به مرحله‌ای نرسیده که چیپ‌های قابل استفاده تجاری تولید کند. دولت چین هدف‌گذاری کرده تا سال ۲۰۲۸ از این دستگاه برای ساخت تراشه بهره ببرد، اما بسیاری از کارشناسان زمان‌بندی سال ۲۰۳۰ را واقع‌بینانه‌تر می‌دانند. با این حال، حتی این تاریخ هم فاصله‌ای بسیار کوتاه‌تر از پیش‌بینی‌های اولیه تحلیلگران غربی است؛ پیش‌بینی‌هایی که معتقد بودند چین دهه‌ها با فناوری EUV فاصله دارد.
این پروژه در بالاترین سطوح حاکمیتی چین دنبال می‌شود و مستقیماً زیر نظر حزب کمونیست پیش می‌رود؛ در حالی که شرکت هواوی نقش بازوی اجرایی و هماهنگ‌کننده اصلی را بر عهده دارد. هواوی با ایجاد شبکه‌ای گسترده از شرکت‌ها و مراکز تحقیقاتی، هزاران مهندس را درگیر این پروژه کرده است. شرایط کاری به‌شدت امنیتی و فشرده توصیف می‌شود؛ به‌طوری که بسیاری از کارکنان عملاً در محل کار مستقر هستند و در طول هفته اجازه خروج ندارند. تیم‌ها به‌شکل ایزوله فعالیت می‌کنند و هر گروه تنها به بخش کوچکی از پروژه دسترسی دارد، بدون آنکه تصویر کاملی از کل فرآیند در اختیارش باشد.
با این حال، ساخت خود دستگاه تنها بخشی از مسیر است و چالش اصلی در بخش اپتیک و سیستم‌های نوری نهفته است. ماشین‌های EUV شرکت ASML از آینه‌ها و لنزهای فوق‌دقیقی استفاده می‌کنند که توسط شرکت آلمانی Zeiss ساخته می‌شوند و تولید هرکدام ماه‌ها زمان می‌برد. چین هنوز در دستیابی به چنین سطحی از دقت نوری با موانع جدی مواجه است. برای عبور از این مرحله، پژوهشگران چینی به سراغ خرید قطعات دستگاه‌های قدیمی ASML از بازارهای ثانویه رفته و آن‌ها را مهندسی معکوس می‌کنند. هم‌زمان، مؤسسات تحقیقاتی داخلی با بودجه‌های کلان و تقریباً نامحدود تلاش می‌کنند نمونه‌های بومی این سیستم‌های اپتیکی را توسعه دهند.
پروژه EUV چین بیش از آنکه یک رقابت صنعتی صرف باشد، نمایش اراده سیاسی و استراتژیک این کشور در برابر محدودیت‌های جهانی است. حتی اگر چین تا سال‌ها نتواند به کیفیت و بازدهی ماشین‌های ASML برسد، همین مسیر یادگیری و انباشت دانش می‌تواند در بلندمدت معادلات صنعت نیمه‌هادی را تغییر دهد. تجربه نشان داده که وقتی چین یک فناوری را به اولویت ملی تبدیل می‌کند، مسئله «آیا موفق می‌شود یا نه» کم‌کم جای خود را به این سؤال می‌دهد که «چه زمانی و با چه هزینه‌ای» به نتیجه می‌رسد؛ و همین موضوع، نگرانی اصلی رقبای غربی خواهد بود.