چین سرانجام از اولین دستگاه لیتوگرافی پرتوی الکترونی (e-beam) خود با نام «شی‌ژی» (Xizhi) رونمایی کرد؛ دستاوردی که توسط دانشگاه ژجیانگ توسعه یافته و می‌تواند نقطه عطفی در مسیر خودکفایی این کشور در صنعت نیمه‌هادی باشد.
به دلیل محدودیت‌های آمریکا و هلند، چین از خرید پیشرفته‌ترین دستگاه‌های لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) شرکت ASML محروم مانده بود؛ تجهیزاتی که برای تولید تراشه‌های زیر ۷ نانومتر حیاتی هستند. حالا به گزارش SCMP، این دستگاه بومی می‌تواند بخشی از شکاف فناورانه موجود را پر کند.
ویژگی‌های فنی «شی‌ژی»
این سامانه با استفاده از پرتوی الکترونی متمرکز، مدارهای الکترونیکی را با دقتی چشمگیر روی ویفرهای سیلیکونی حکاکی می‌کند. «شی‌ژی» توانایی ایجاد خطوطی با عرض ۸ نانومتر و دقت موقعیت‌یابی ۰.۶ نانومتر دارد؛ سطحی که با استانداردهای جهانی همخوانی دارد. علاوه بر این، قیمت پایین‌تر آن نسبت به نمونه‌های وارداتی، امکان دسترسی گسترده‌تر را برای مؤسسات تحقیقاتی چینی فراهم می‌کند. نام این دستگاه نیز از خوشنویس برجسته‌ای در تاریخ چین وام گرفته شده است.
این رونمایی را می‌توان بیش از آنکه صرفاً یک دستاورد فناورانه دانست، یک پیام ژئوپولیتیک تفسیر کرد. چین نشان می‌دهد حتی در شرایط تحریم‌های سنگین هم می‌تواند مسیر بومی‌سازی فناوری‌های راهبردی را دنبال کند.
محدودیت‌ها و فرصت‌های لیتوگرافی بومی چین؛ «شی‌ژی» نقطه شروع است
با وجود همه دستاوردها، لیتولوگرافی پرتوی الکترونی (e-beam) محدودیت‌های خود را دارد. برخلاف فناوری‌های DUV و EUV، این فناوری برای تولید انبوه تراشه مناسب نیست و سرعت پایین آن باعث می‌شود بیشتر برای تحقیق و توسعه، طراحی نمونه‌های اولیه و آزمایش‌های پیشرفته کاربرد داشته باشد تا تولید تجاری در مقیاس وسیع. با این حال، «شی‌ژی» به چین این امکان را می‌دهد که وابستگی خود به فناوری‌های خارجی را کاهش دهد و چرخه نوآوری داخلی را سریع‌تر پیش ببرد.
رونمایی از این دستگاه تنها بخشی از استراتژی گسترده چین برای بومی‌سازی زنجیره تأمین نیمه‌رساناها است. گزارش‌های تاییدنشده حاکی از آن است که هواوی در کارخانه خود در دونگوان در حال آزمایش یک دستگاه EUV بومی است و احتمالاً تولید انبوه آن در سال ۲۰۲۶ آغاز خواهد شد. موفقیت هواوی در این زمینه می‌تواند نقطه عطفی تاریخی باشد و موازنه قدرت در صنعت جهانی تراشه را به‌طور چشمگیری تغییر دهد. چنین تحولی می‌تواند شرکت‌هایی مانند هواوی و SMIC را قادر سازد تا با غول‌های آمریکایی همچون اپل، کوالکام و انویدیا رقابت مستقیم داشته باشند.
این وضعیت نشان می‌دهد چین با گام‌های حساب‌شده و سرمایه‌گذاری‌های کلان، می‌کوشد استقلال فناورانه خود را در صنعت تراشه محقق کند. حتی اگر «شی‌ژی» برای تولید انبوه مناسب نباشد، اهمیت آن در تحقیق و توسعه و طراحی نمونه‌های پیشرفته غیرقابل انکار است و می‌تواند زیرساخت لازم برای نسل بعدی تراشه‌های پیشرفته را فراهم کند. موفقیت در تولید EUV داخلی واقعاً می‌تواند معادلات جهانی را به هم بریزد و رقابت میان غول‌های فناوری را وارد مرحله‌ای تازه کند.